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超高真空組件

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電子束蒸發源

電子束蒸發源

對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或間接電阻加熱方式,使用這種方式來達到溫度沒有本質的限制。
我司提供的这款電子束蒸發源是由高质量,完全与高真空兼容材料构成,并且可以烘烤至250℃。




應用領域:
表面科學
金屬薄膜接觸腳
MBE摻雜應用

型號參數:
多种不同型号提供不同功率的電子束蒸發源,最高500W,甚至按照客户需要提供更高功率的電子束蒸發源。
提供Flux電流監控,監控蒸鍍速率。
坩埚容量小,节约靶材,提供最小0.21 mm3,最大1000 mm3的坩埚。
在高真空中,可以烘烤至250℃。
自動化軟件控制;
手動/馬達驅動擋板;
占用腔體空間小
冷卻水流量小
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