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超高真空組件

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磁控濺射靶源

磁控濺射靶源

我司提供的磁控溅射源是目前唯一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空环境下,可以实现超高纯度的溅射沉积。






應用範圍:
金屬沈積;
電介質沈積;
複合物沈積。



技術參數:
不同型号溅射源可以选用不同靶材尺寸 .1”,2”,3” 等各种靶材尺寸均可使用;
靶材厚度薄,最低4mm,節約靶材;
濺射源法蘭上帶有氣體管道,以便提高操作濺射源時的真空。
手动/马达驱动 挡板
濺射源可設計成原位傾斜,傾斜角度(+/-30?)
氣體流量控制
進程全自動化
真空中可烘烤至250攝氏度;
占用空間小;
冷卻水流量低,僅0.5L/min
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